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Neuheiten der Formnext 2021

Batch-Processing mit Standard-Wafern

Nanoscribe kommt mit dem neuen Quantum X shape zur Formnext – einem hochpräzisen 3D-Drucker für das Rapid Prototyping und das industrielle Batch-Processing im Wafer-Maßstab.

Auf Basis der 2-Photonen-Polymerisation (2PP) ermöglicht das Mikrofabrikationssystem laut Hersteller den hochpräzisen 3D-Druck von Objekten in 2,5D und 3D mit Submikrometerpräzision und auf Flächen von bis zu 25 Quadratzentimeter.

Der neue Quantum X shape. Bild: Nanoscribe
Der neue Quantum X shape. Bild: Nanoscribe

Als aufrechtes System mit automatischer Dispensing-Funktion der Fotolacke eignet sich der Drucker für das industrielle Batch-Processing mit Standard-Wafern bis zu 6 Zoll, so Nanoscribe. Damit würden sich neue Möglichkeiten in zahlreichen Anwendungsfeldern eröffnen – zum Beispiel in den Biowissenschaften, der Materialentwicklung, Mikrofluidik, Mikrooptik, Mikromechanik und für mikroelektromechanische Systeme (MEMS).

Die Leistung des Mikrofabrikationssystems speist sich aus einem Galvosystem mit hoch entwickelten elektronischen Systemsteuerungseinheiten auf einer granitbasierten Plattform. Hinzu kommen ein industriegerechter gepulster Femtosekundenlaser und eine Laserfokustrajektorien-Steuerungseinheit. Letztere dient der Be- und Entschleunigung der Galvo-Spiegeleinheiten auf die optimale Scangeschwindigkeit und der dynamischen Anpassung der Laserleistung bei Modulationsraten von 1 MHz.

MEHR INFOS UNTER:

nanoscribe.com

Nanoscribe auf der Formnext 2021:

Halle 12.1, Stand G61

Tags

  • Additive Fertigung